半導體切割用綠碳化矽
1. 綠碳化矽的基本性質
綠碳化矽(化學式SiC)是碳化矽的一種高純度變異體(通常≥99%)。與黑碳化矽相比,綠碳化矽更硬、更脆,純度也更高。
•極高的硬度:莫氏硬度約為9.5,僅次於鑽石和立方氮化硼(CBN),因此在切割和研磨硬脆材料方面非常有效。
•高脆性:微觀上,其顆粒具有銳利的邊緣,受力時易斷裂。這使得在切割過程中能夠持續產生新的鋒利切割刃(即所謂的「自銳化」),保持較高的切割效率。
•高熱導率:有助於在切割過程中散熱,並減少熱應力對矽片的影響。
•化學穩定性:在室溫下,它不會與酸或鹼發生反應,確保純淨的切割過程並防止矽材料的污染。
2. 為什麼選擇綠碳化矽用於半導體切割?
半導體切割,尤其是矽錠切片,對材料的要求極為嚴格:
1.極硬的切割材料:單晶矽錠雖然易碎,但硬度極高(莫氏硬度約6.5)。有效的切割需要更硬的磨料。
2.極高的精度和表面品質要求:切片的矽片必須極薄(例如100-200μm),翹曲和弓形度極小,表面損傷層可控。綠碳化矽鋒利的切割刃能夠達到相對精細的切割。
3.性價比高:雖然鑽石是一種硬度較高的材料,但其成本明顯高於綠碳化矽。對於矽材料的切割,綠碳化矽在硬度、效率和成本之間達到了最佳平衡。
因此,綠碳化矽已成為傳統漿料切割技術中不可取代的磨料。

3.具體應用:遊離磨料漿料切割
綠碳化矽在半導體切割中最經典、曾經一度主流的應用,就是作為遊離磨料在線切割工藝中應用,這種技術被稱為「漿料線切割」。
工作原理:
1.將極細的、高速運動的金屬絲(通常是鋼琴絲)纏繞在導輪上,形成緻密的絲網。
2. 將綠色碳化矽微粉(粒徑通常在5-20μm之間)與聚乙二醇(PEG)等切削液混合,形成黏稠的漿液。
3. 將漿料連續泵送到移動中的絲網上。
4. 絲網將漿料輸送到進料矽錠中。
5.在巨大的壓力下,附著在鋼絲上的綠色碳化矽粉末顆粒對矽錠進行滾動、刮擦和切割,就像無數顆微小的“牙齒”,將矽材料逐漸削去,最終將整塊矽錠同時切成數百片薄片。
4.當今技術演進:鑽石線切割的興起和綠色碳化矽的挑戰
近年來,半導體和光伏行業經歷了重大的技術變革:鑽石線切割(DWS)正在迅速取代傳統的漿料切割。
•優點:
•超快的切割速度:比漿料切割速度快3-5倍,顯著提高生產效率。
•更環保:無需使用大量的PEG切割液和SiC粉末,減少浪費。